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日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置

日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置

產(chǎn)品型號： GVH198 / GVH298 / GV154

所屬分類：

產(chǎn)品時(shí)間：2024-09-07

簡要描述：日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154
只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境（例如超高真空或氣流）中的樣品，以快速加熱樣品而不會(huì)發(fā)生接觸。?
可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。

詳細(xì)說明：

日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154

 

說明

只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境（例如超高真空或氣流）中的樣品，以快速加熱樣品而不會(huì)發(fā)生接觸。?
可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
Thermo Riko的主要型號。

特點(diǎn)

快速升溫：大加熱速度為150℃/秒，gao1500℃持續(xù)約1分鐘
清潔加熱：無需擔(dān)心氣體的產(chǎn)生或熱源的電磁感應(yīng)
局部供暖：僅用紅外光照射樣品，不加熱周圍區(qū)域
可自由連接：可以連接到各種系統(tǒng)

用途

快速加熱和退火樣品，例如Si和SiC
在氧化氣氛中形成氧化物晶體，形成薄膜
在氫氣和氮?dú)庵屑訜峄?/td>
X射線或UV照射過程中樣品的溫度升高
解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等的加熱
磁場加熱，非磁場加熱
在加壓氣氛中加熱
通過對樣品施加載荷來加熱

日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154

規(guī)格

紅外線感應(yīng)加熱裝置根據(jù)應(yīng)用具有以下規(guī)格。 
  
　超高真空型支持　10 -9 Pa的超高真空。
　高速加熱型　大升溫速度為150℃/秒。
　常溫加熱型　可以對放置在大氣中的樣品進(jìn)行點(diǎn)加熱。
　加壓氣氛類型　可以加熱壓力在10個(gè)大氣壓以下的樣品。
　特殊規(guī)格　通過利用GV系列的功能，我們可以滿足各種要求，例如快速降低溫度，負(fù)載加熱和磁場加熱。
　請隨時(shí)與我們聯(lián)系。
　符合CE標(biāo)志　我們還生產(chǎn)符合CE標(biāo)志的規(guī)格。

超高真空型GVH

型號名稱GVH198GVH298
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　gao溫度1200°攝氏度1400°攝氏度
　加熱面積φ20毫米
　大加熱速度1℃/秒
　大極限真空5×10 -9帕
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘

高速加熱型GV / GVL

型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
　紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
　gao溫度1100°攝氏度1300°攝氏度1500°攝氏度1600°攝氏度
　加熱面積φ14毫米φ20毫米
　大加熱速度100°C /秒100-150°C /秒
　大極限真空5×10 -7帕
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘

加壓氣氛類型GVP

型號名稱GVP198GVP298
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　gao溫度1200°攝氏度1300°攝氏度
　加熱面積 φ20毫米
　大加熱速度 100°C /秒
　大耐壓 1MPa以下
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘
快速退火紅外感應(yīng)加熱系統(tǒng)GV1 / GV2
底部照射型紅外熱處理設(shè)備RTA198 / RTA298
熱脫附氣體分析儀GV2H
用于磁場中樣品加熱的紅外引入加熱系統(tǒng)GVL298M / GV154M / GV-M 1
用于X射線形貌的紅外感應(yīng)加熱裝置
XPS設(shè)備安裝示例


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